儀器介紹：

華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?， 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！

 

設(shè)備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

                                  

設(shè)備特點

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度高精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設(shè)計，響應(yīng)速度快。 

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

序號	項目	數(shù)量	品牌	備注
1	爐體	1	華測	溫度1200℃
2	加熱源	1	GE
3	溫度控制器	1	華測
4	電熱偶	1	omega
5	溫控表	1	歐姆龍
6	穩(wěn)壓電源	1	華測	可定制
7	制冷水機	1	同飛	制冷功率8KW
8	分子泵	1	萊寶	CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa

 

      

     

可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度；

（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）可設(shè)定32個程序、256個步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。

更多應(yīng)用：

電子材料	半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）
	熱源薄膜形成
	離子注入后
	硅化物的形成
陶瓷與無機材料	陶瓷基板退火爐
	玻璃基板退火爐
鋼鐵和金屬材料	薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
	爐焊接模擬
	高真空熱處理（1000°c以下）
	大氣氣體熔化過程
	壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐
復(fù)合材料	耐熱性評價爐
	無機復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐
其他	高溫拉伸壓縮試驗爐
	分段分區(qū)控制爐
	溫度梯度爐
	爐氣分析
	超導(dǎo)陶瓷退火爐