產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅;用于沉積高品質(zhì)的低應(yīng)力氮化硅或氮氧化硅。
詳情介紹:
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管
產(chǎn)品簡介
用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅;用于沉積高品質(zhì)的低應(yīng)力氮化硅或氮氧化硅。
主要技術(shù)指標(biāo)
爐管1:N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉積工藝
氣體:高純N2、SiH4、PH3
爐管2:低應(yīng)力氮化硅,氮氧化硅薄膜
氣體:高純N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
溫度:700-900 °C
硅片尺寸:3英寸、4英寸、6英寸圓片;50片/爐